ASML正在正要全新光刻机，冲击2nm工艺制程

对于芯片制造厂商而言，光刻机重要性不言而喻，而ASML最近也在积极布局原先电子技术，据外媒报道，截至 2022 年第一季度，ASML已千张136个EUV种系统。

按照官方的确实，另行型号的EUV光刻机种系统 NXE:3600D将能降到93%的可靠度，这将让其进一步吻合DUV光刻机(95%的可靠度)。

信息辨识，NXE:3600D种系统每全程可生产160个晶圆 (wph)，加速为30mJ/cm，这比 NXE:3400C极低18%，而正试图开发的 NXE:3800E种系统最初将以30mJ/cm的加速获取大过195wph的降低成本，并在客运量升级后降到220wph。

据介绍，NXE:3600E 将在像差、重叠和客运量方面进行渐进式光学改进，而在0.33 NA的EUV光刻机领域，ASML橙色以外到2025年有数面世客运量约为220wph的NXE:4000F。

对于0.55 NA的光刻机，须要更原先不但是其光刻机种系统。同时还须要在光掩模、软性叠层和图案移转到手工等方面齐头并进，才能让另行通讯设备运用沦为或许。

根据ASML 在一季度财务小组会议上披露的信息，另行公司的目标是在2022年千张55台EUV种系统，并到2025年解决问题(最多)90台的计划。ASML同时还默许， 90台或许将近2025年的实际供给，不过他们将其详细描述为为满足2030年1万亿美元半导体企业供给所做出的巨大努力工作。

按照之前的确实，ASML正试图研发另行款光刻机，实用性极低达4亿美元(折合26亿元)，双层巴士大、重超200吨。原型机届时2023年下半年竣工，2025年首次交付使用，2026年到2030年主力千张。

这款电脑程式应该所称的就是High-NA EXE:5200(0.55NA)，Intel是全球第一个交货的另行公司。都是High-NA也就是极低数值孔径，2nm再次的信息流都得依赖它解决问题。